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精實深耕台灣產業的半導體CMP技術領導者
全球半導體CMP技術領導者，研磨墊市占率全球第一，以六標準差作為企業DNA，導入EMI系統即時監控，提高生產品質降低顧客不滿意度，參與台灣持續改善競賽多次獲獎，成效卓著。
總廠長 陳光民
負 責 人｜陳俊達
地 址｜新竹科學園區苗栗縣竹南鎮科西二路6號
產品、服務｜研磨墊及研磨液
員 工 數｜422人
營 業 額｜4,506,925千元(109年)
| 企業介紹
半導體CMP技術的領導者在地化，協助客戶爭取產品市場先機
羅門哈斯亞太研磨材料股份有限公司，工廠位於臺灣竹南科學園區，CMPT竹南廠前身為美商陶氏化學（Dow Chemical）成員企業，自2019年6月成為美商杜邦（DuPont）成員企業，主要產品為化學機械平坦化拋光研磨墊（CMP polishing pad），其研磨墊全球市佔率長年居冠，為全球半導體CMP技術的領導者，所提供各軟硬拋光研磨墊與研磨液，滿足每種CMP應用與先進製程的獨特性能需求。
羅門哈斯亞太研磨材料位於新竹科學園區竹南基地，在此除製造廠房外還設有電子材料技術中心，有高階化學機械研磨實驗室，這是全球最先進CMP製造與應用中心與先進的CMP拋光研磨實驗室與無塵室，以及研磨液研發實驗室。
近年來化學機械研磨（CMP）為IC製程中成長最快，最受重視的一項技術，其製程目的即是要把晶圓表面磨平，CMP可去除在製程中發生在晶片表面的凹凸不平，半導體元件中分層的增加與導線材料多樣性增長，皆能使應用持續成長。
羅門哈斯在CMP材料領域中，居全球領先的地位，並且與客戶建立緊密的合作夥伴關係，並傾注全力加快產品進程與技術開發，並且同時也滿足個別客戶的特殊要求，為客戶節省導入時程並爭取產品市場先機。
竹南目前已大量生產供應10奈米及7奈米製程研磨墊能力,並已開始量產5奈米製程研磨墊產品，著手研發對應3奈米製程的產品，對於目前平板電腦、行動電話和其他電子設備走向輕薄短小的趨勢，具有出卓越的貢獻。
| 經營理念及推動歷程
正直誠信以人為本，創造永續未來
追求品質與績效是羅門哈斯亞太研磨材料每個員工對追求卓越的承諾，要實現這一個目標要依靠團隊精神和持續改進的過程，全體工致力於成為產業領導者，為客戶及所有關鍵利益相關者提供達到或超過其預期的優質產品和服務。
本廠於成立之初即遵循ISO等相關國際標準建構品質、環保、職安衛等各管理系統，同時為了滿足半導體產業客戶的要求，也積極參照IATF16949精神發展品質管制手法、並建製程管制系統監控製程品質，減少產品變異。
自2009年推廣精實與六標準差（Lean&Six Sigma），在工安、品質、生產力等方面持續改善，提升進步成效卓越，並創造客戶、公司與股東的三贏的局面。
竹南廠更將精實與六標準差訂為目標，透過教育訓練與持續改善的推行，追求「最小變異」，消除浪費與精益求精已成為廠區內所有員工的核心理念與經營管理思維。已成為杜邦全球工廠中全面徹底執行精實與六標準差的典範，全廠同仁通過六標準差認證率高達92%。
| 得獎理由：落實典範情形及效益
六標準差為企業DNA，為杜邦全球工廠的典範
落實情形
以六標準差為企業DNA，全廠內同仁開辦精實與六標準差培訓，提升品質意識，更加優化員工品質素養，所有業務活動都遵循六標準的標準；截至2018年工程師主管職綠帶及黑帶認證率達81%，第一線產線人員黃帶及綠帶認證率高達95%，為杜邦全球工廠中執行精實及六標準差的典範。
推行持續改善專案成效卓著，連續10年累計提案 1,154件，2019~2020年更高達373件，員工參與率達90%；參與台灣持續改善競賽並多次獲獎，亦曾獲國家工安獎、國家永續發展獎。
導入全面製程監控管理系統，降低不良率，可即時監控、預警及數據管理，上線1年（2017~2018年）不符客戶管控比例已降至1/6，每千片產品客戶抱怨率由2016年的0.22%，在2018年降至0.16%。
落實效益
研磨墊市佔率全球第一，其中12 奈米以下先進製程市占率 9 成，為全球最大半導體化學機械研磨（CMP）技術供應商，2018年新產品營收佔總營業額 12%，同時帶動本土產業鏈成長，推動設備及材料倍增計劃，扶植台灣機械業及化材業轉型。
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